EDI超純水處理設(shè)備是一種集成了電滲析與離子交換技術(shù)的深度精處理設(shè)備，是目前制備工業(yè)超純水環(huán)保的核心工藝。
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完整的超純水系統(tǒng)通常分為三級：
預(yù)處理：多介質(zhì) / 活性炭 / 軟化 / 精密過濾 → 除濁、余氯、硬度
一級除鹽：反滲透（RO） → 去除 99% 鹽分，產(chǎn)水電導(dǎo)率 < 20 μS/cm
深度精處理（EDI）：電去離子模塊 → 產(chǎn)水電阻率 15–18.2 MΩ·cm (25℃)
終端拋光（可選）：拋光混床 / UV / 超濾 → 滿足半導(dǎo)體級（≥18.2 MΩ?cm，TOC < 1 ppb）
主要應(yīng)用領(lǐng)域1. 電子 / 半導(dǎo)體行業(yè)（最核心應(yīng)用）
芯片、晶圓清洗、光刻、蝕刻
要求：≥18.2 MΩ?cm、TOC < 1 ppb、無顆粒物
2. 生物醫(yī)藥 / 制藥
注射用水（WFI）、洗瓶、制劑、GMP 認(rèn)證用水
3. 電力 / 電站
鍋爐補(bǔ)給水、冷卻水處理 → 防結(jié)垢、防腐蝕
4. 實(shí)驗(yàn)室 / 科研
HPLC、ICP-MS、細(xì)胞培養(yǎng)、精密分析用水
5. 其他
光電顯示（LCD/OLED）、太陽能光伏、精密電鍍、食品飲料
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